En una comparación histórica y actual sobre la innovación y la competencia tecnológica, se cuentan los esfuerzos de Ptolomeo V por mantener el liderazgo de Egipto en el almacenamiento de conocimiento prohibiendo la exportación de papiro. Esta medida provocó que Pérgamo buscara alternativas, desarrollando el pergamino como nuevo material para la escritura. Este relato es paralelo a los desafíos actuales que enfrenta China en su carrera por la tecnología fotolitográfica para la fabricación de chips, enfrentando restricciones similares en el ámbito tecnológico por parte de Estados Unidos y sus aliados.
China, en su búsqueda por independizarse y superar los vetos tecnológicos impuestos, ha emprendido un camino similar al de Pérgamo, intentando desarrollar su tecnología de litografía ultravioleta extrema (UVE) para la fabricación de chips avanzados. Pese a los desafíos y rumores de estar estancados en tecnologías menos avanzadas, surgieron informes sobre ingenieros chinos, ex empleados de la empresa holandesa ASML, quienes están trabajando en un prototipo capaz de generar luz UVE, aunque todavía no se han producido chips funcionales.
Se anticipa que esta máquina podría empezar a construir chips avanzados hacia el 2028 o 2030, marcándose un paralelismo con el «Proyecto Manhattan», refiriéndose a la monumental tarea y el esfuerzo por alcanzar independencia en la fabricación de chips avanzados. Este desarrollo no solo refleja los esfuerzos de ingeniería inversa sino también los desafíos relacionados con el acceso a tecnologías y materiales clave, lo que aumenta la rivalidad entre China y compañías occidentales como ASML y Zeiss.
La historia y el esfuerzo contemporáneo chino retratan cómo las restricciones y prohibiciones pueden, paradójicamente, impulsar la innovación alternativa y el desarrollo de soluciones independientes, reminiscente de cómo el boicot del papiro provocó el nacimiento del pergamino, un material más duradero que jugó un papel crucial en la preservación de la literatura antigua.